8 صفحه ترجمه + متن لاتین

چکیده:

اثراتی ز ولتاژ انودایزینگ(انودی) بر روی تشکیل فیلم متخلخل آلومینا روی فویل آلومینیوم در اسید فسفریک 4 درصد در دمای 28 درجه مورد مطالعه قرار گرفته است. ضخامت سد لایه ای از فیلم های متخلخل توسط آنودیز مجدد تعیین شد. ولت متر دیجیتال با سیستم کامپیوتری برای ثبت تغییر در پتانسیل آندی با گذشت زمان و آنودایز مجدد مورد استفاده قرار گرفت. مشخص شد که این تغییر در مکانیزم رشدفیلم متخلخل رخ داده است. این پدیده توسط تغییر سطح فیلم آنودیک اکسید و وابستگی رشد به ولتاژ آنودی الکترولیت توضیح داده شد. نشان داده شد که بار سطحی فیلم اکسید در هنگام آند سازی در اید فسفریک در ولتلژ 38 مساوی صفر بود. بالاتر از 38 ولت ، سطح فیلم اکسیدی یک بار مثبت دارد و این افزایش بار با ولتاژ آنودی افزایش می یابد. فیلم های متخلخل آلومینا توجه را به عنوان قالب نانو سا ختاری برای انواع مختلف ساختار های دستگاه در مقیاس نانو متر مانند الکترونیک ، الکترونیک نوری و دستگاه های مغناطیسی ، جلب کرده است. اول از همه در رابطه با فیلم های متخلخل آلومینا با ساختار بسیار منظم توضیح می دهیم. به همین دلیل علاقه به مطالعات فرایند های شکل گیری و مورفولوژی فیلم های متخلخل آندی ، به طور قابل توجهی افزایش یافته است .